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MESA/SC晶片清洗设备

发布时间:2020-10-05 作者:鲁超超声 点击:111次

MESA/SC晶片清洗设备(图1)

 

概述:

该设备用于晶片的清洗处理。该机清洗程序为酸洗、超声洗、喷淋清洗、流洗。其工艺性能指标及可靠性完全达到进口同类设备水平。

主要特点:

采用进口PP板制作。

适用MESA*SC晶片清洗。

超声功率强劲,性能稳定。

采用进口超声波电源。


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